水性墨水納米高剪切分散機 轉(zhuǎn)子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。
水性墨水納米高剪切分散機
分散機是分散是至少兩種互不相溶或者難以相溶且不發(fā)生化學反應(yīng)的物質(zhì)的混合過程。工業(yè)分散的目標是在連續(xù)相中實現(xiàn)“令人滿意的”精細分布。
墨水是墨水和油漆涵蓋了涂裝和噴涂應(yīng)用的很多類產(chǎn)品。墨水和油漆通常分為油相和水相兩種,并有添加色素或樹脂。如采用傳統(tǒng)加工方式,需要花費相當長的時間來溶解樹脂,還會發(fā)生沉淀和結(jié)塊。使用設(shè)備,客戶可以高效率生產(chǎn)高品質(zhì)的產(chǎn)品。
縮短工藝時間。設(shè)備產(chǎn)生的高剪力,可以打碎樹脂顆粒,并暴露于溶劑中,加速溶解過程。
提升產(chǎn)品品質(zhì)。根據(jù)原料和產(chǎn)品的細度,設(shè)備可以研磨色素,或消除 終產(chǎn)品的結(jié)塊。有多種分散頭供選擇,能完美的勝任各項任務(wù)。
墨水納米分散機是 顆粒細化到納米級后,其表面積累了大量的正、負電荷,納米顆粒的形狀極不規(guī)則,這樣造成了電荷的聚集。納米顆粒表面原子比例隨著納米粒徑的降低而迅速增加,當降至1nm時,表面原子比例高達90%,原子幾乎全部集中到顆粒表面,處于高度活化狀態(tài),導(dǎo)致表面原子配位數(shù)不足和高表面能。納米顆粒具有很高的化學活性,表現(xiàn)出強烈的表面效應(yīng),很容易發(fā)生聚集而達到穩(wěn)定狀態(tài),從而團聚發(fā)生
*納米氧化物極易產(chǎn)生自身的團聚,使得應(yīng)有的性能難以充分發(fā)揮。此外,納米氧化物的諸多奇異性能能否得到充分發(fā)揮,還取決于限度降低粉體與介質(zhì)間的表面張力。因此,納米氧化物粉體必須均勻分散,充分打開其團聚體,才能發(fā)揮其應(yīng)有的奇異性能。
墨水納米分散機
分散機的高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是 重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求,希德公司在XR2000系列的基礎(chǔ)上又開發(fā)出XRS2000超高速分散機。其剪切速率可以超過100.00 rpm,轉(zhuǎn)子的速度可以達到40m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度*,無需其他輔助分散設(shè)備。
三級高剪切分散機器,主要用于微乳液及超細懸乳液的生產(chǎn)。由于工作腔體內(nèi)三組分散頭(定子+轉(zhuǎn)子)同時工作,乳液經(jīng)過高剪切后,液滴更細膩,粒徑分布更窄,因而生成的混合液穩(wěn)定性更好。三組分散頭均易于更換,適合不同工藝應(yīng)用。該系列中不同型號的機器都有相同的線速度和剪切率,非常易于擴大規(guī)模化生產(chǎn)。也符合CIP/SIP清潔標準,適合食品及醫(yī)藥生產(chǎn)。
高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細為懸浮乳液是重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求,其剪切速率可以超過15000rpm,轉(zhuǎn)子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。
以下為型號表供參考:
型號 | 標準流量 L/H | 輸出轉(zhuǎn)速 rpm | 標準線速度 m/s | 馬達功率 KW | 進口尺寸 | 出口尺寸 |
XRS2000/4 | 300-1000 | 18000 | 44 | 4 | DN25 | DN15 |
XRS2000/5 | 1000-1500 | 10500 | 44 | 11 | DN40 | DN32 |
XRS2000/10 | 3000 | 7300 | 44 | 22 | DN50 | DN50 |
XRS2000/20 | 8000 | 4900 | 44 | 37 | DN80 | DN65 |
XRS2000/30 | 20000 | 2850 | 44 | 55 | DN150 | DN125 |
XRS2000/50 | 40000 | 2000 | 44 | 160 | DN200 | DN150 |
水性墨水納米高剪切分散機