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疏水型氣相二氧化硅三級(jí)分散機(jī)轉(zhuǎn)子速度可以達(dá)到44m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專(zhuān)門(mén)研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級(jí)。剪切力更強(qiáng),乳液的粒徑分布更窄。
疏水型氣相二氧化硅三級(jí)分散機(jī)
疏水性氣相二氧化硅簡(jiǎn)介:
疏水性氣相二氧化硅一般是經(jīng)過(guò)后處理的產(chǎn)品。可以選用不同型號(hào)的氣相法或沉淀法二氧化硅作為原料,通過(guò)硅烴基基團(tuán)與合適的化合物反應(yīng);這一產(chǎn)品由于表面連接不水解的甲基基團(tuán)而呈疏水性。
與原本親水性二氧化硅不同的是,疏水性氣相二氧化硅不能被水所濕潤(rùn)。盡管疏水性氣相二氧化硅密度大于水的密度,但它們可以浮于水面上。疏水化后,所吸收的水分的量會(huì)比原來(lái)親水性氣相化硅大幅降低。
通過(guò)對(duì)氣相二氧化硅進(jìn)行表面處理,其技術(shù)性能在一些特定的應(yīng)用領(lǐng)域可以得到優(yōu)化,可以使之有效改善許多液體聚合物體系的流變特性,尤其是在環(huán)氧樹(shù)脂體系內(nèi)。
疏水性氣相二氧化硅特性:是通過(guò)親水性氣相二氧化硅與活性硅烷(例如氯硅烷或六甲基二硅胺烷)發(fā)生化學(xué)反應(yīng)而制得。它具有疏水性(憎水性),而且不能在水中分散。為了解決工業(yè)中一些特殊的技術(shù)問(wèn)題,各種型號(hào)的疏水性氣相二氧化硅被研發(fā)出來(lái)。如通過(guò)用硅烷或硅氧烷處理改性親水級(jí)別的氣相法二氧化硅生產(chǎn)疏水性的氣相法二氧化硅,在最終的產(chǎn)品中,化學(xué)處理劑以化學(xué)鍵方式結(jié)合在原來(lái)的親水性氧化物上。除了親水性產(chǎn)品的上述優(yōu)點(diǎn)外,疏水性氣相二氧化硅產(chǎn)品的特點(diǎn)是:低吸濕性、很好的分散性、即使對(duì)于極性體系也有流變調(diào)節(jié)能力。有些產(chǎn)品,在疏水處理的基礎(chǔ)上再經(jīng)過(guò)結(jié)構(gòu)改性,可為客戶(hù)研發(fā)新產(chǎn)品和提高產(chǎn)品的性能提供進(jìn)一步的幫助。例如:在液體體系中,疏水性氣相二氧化硅可以達(dá)到高添加量,而對(duì)體系的粘度影響很小。
疏水性氣相二氧化硅主要有:
研磨分散:利用三輥機(jī)或多輥機(jī)的輥與輥速度的不同,將研磨料投入加料輥(后輥)和中輥之間的加料溝,二輥以不同速度內(nèi)向旋轉(zhuǎn),部分研磨料進(jìn)入加料縫并受到強(qiáng)大的剪切作用,通過(guò)加料縫,研磨料被分為兩部分,一部分附加在加料輥上回到加料溝,另一部分由中輥帶到中輥和前輥之間的刮漆縫,在此又一次受到更強(qiáng)大的剪切力作用。經(jīng)過(guò)刮漆縫,研磨料又分成兩部分,一部分由前輥帶到刮處,落入刮漆盤(pán),另一部分再回到加料溝,如此經(jīng)幾次循環(huán),可達(dá)到分散的目的。但用三輥機(jī)或多輥機(jī)進(jìn)行處理效率低,能耗高,滿(mǎn)足不了大生產(chǎn)的需求。
球磨分散:通過(guò)球磨機(jī)中磨球之間及磨球與缸體間相互滾撞作用,使接觸鋼球的粉體粒子被撞碎或磨碎,同時(shí)使混合物在球的空隙內(nèi)受到高度湍動(dòng)混合作用而被均勻地分散。
砂磨分散:砂磨是球磨的外延。只不過(guò)研磨介質(zhì)是用微細(xì)的珠或砂。砂磨機(jī)可連續(xù)進(jìn)料,納米粉體的預(yù)混合漿通過(guò)圓筒時(shí),在筒中受到激烈攪拌的砂粒所給予的猛烈的撞擊和剪切作用,使得納米氧化物能很好地分散在涂料中,分散后的漿離開(kāi)砂粒研磨區(qū)通過(guò)出口篩,溢流排出,出口篩可擋住砂粒,并使其回到筒中。通過(guò)球磨機(jī)和砂磨機(jī)分散能取得較好的分散效果及物料細(xì)度,但球磨機(jī)和砂磨機(jī)同樣無(wú)法避免處理效率低,能耗高的缺點(diǎn)。
超高速分散機(jī)的高的轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得超細(xì)微懸浮液是***重要的。根據(jù)行業(yè)特殊要求,太倉(cāng)希德在XR2000系列的基礎(chǔ)上又開(kāi)發(fā)出XRS2000超高速分散機(jī)。其剪切速率可以超過(guò)100.00 rpm,轉(zhuǎn)子的速度可以達(dá)到40m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專(zhuān)門(mén)研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級(jí)。剪切力更強(qiáng)粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度*,無(wú)需其他輔助分散設(shè)備。
XRS設(shè)備與傳統(tǒng)設(shè)備比較:
高效、節(jié)能傳統(tǒng)設(shè)備需8小時(shí)的分散加工過(guò)程,XRS設(shè)備1小時(shí)左右完成,超細(xì)分散*,能耗降低;高速、高品質(zhì)傳統(tǒng)設(shè)備的攪拌轉(zhuǎn)速每分鐘幾十轉(zhuǎn),帶分散功能的轉(zhuǎn)速每分鐘1500轉(zhuǎn)以?xún)?nèi),只完成宏觀分散加工,超細(xì)分散能力極為有限;XRS設(shè)備的轉(zhuǎn)速每分鐘10000~15000轉(zhuǎn)之間,超高線(xiàn)速度產(chǎn)生的剪切力,瞬間超細(xì)分散漿料中的粉體。
多層多向剪切分散
同類(lèi)設(shè)備的定轉(zhuǎn)子等部件結(jié)構(gòu)單一,多級(jí)多層的結(jié)構(gòu)是單純重復(fù)性加工,相同的齒槽結(jié)構(gòu)易發(fā)生物料未經(jīng)分散便通過(guò)工作腔的短路現(xiàn)象;
XRS設(shè)備的定轉(zhuǎn)子結(jié)構(gòu)采用多層多向剪切概念,裝配式結(jié)構(gòu)使物料得到不同方向剪切分散,杜絕了短路現(xiàn)象,超細(xì)分散更為*。
三級(jí)高剪切分散機(jī)器,主要用于微乳液及超細(xì)懸乳液的生產(chǎn)。由于工作腔體內(nèi)三組分散頭(定子+轉(zhuǎn)子)同時(shí)工作,乳液經(jīng)過(guò)高剪切后,液滴更細(xì)膩,粒徑分布更窄,因而生成的混合液穩(wěn)定性更好。三組分散頭均易于更換,適合不同工藝應(yīng)用。該系列中不同型號(hào)的機(jī)器都有相同的線(xiàn)速度和剪切率,非常易于擴(kuò)大規(guī)模化生產(chǎn)。也符合CIP/SIP清潔標(biāo)準(zhǔn),適合食品及醫(yī)藥生產(chǎn)。
高的轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得超細(xì)為懸浮乳液是最重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求,其剪切速率可以超過(guò)15000rpm,轉(zhuǎn)子速度可以達(dá)到44m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專(zhuān)門(mén)研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級(jí)。剪切力更強(qiáng),乳液的粒徑分布更窄。
以下為型號(hào)表供參考:
型號(hào) | 標(biāo)準(zhǔn)流量 L/H | 輸出轉(zhuǎn)速 rpm | 標(biāo)準(zhǔn)線(xiàn)速度 m/s | 馬達(dá)功率 KW | 進(jìn)口尺寸 | 出口尺寸 |
XRS2000/4 | 300-1000 | 18000 | 44 | 4 | DN25 | DN15 |
XRS2000/5 | 1000-1500 | 10500 | 44 | 11 | DN40 | DN32 |
XRS2000/10 | 3000 | 7300 | 44 | 22 | DN50 | DN50 |
XRS2000/20 | 8000 | 4900 | 44 | 37 | DN80 | DN65 |
XRS2000/30 | 20000 | 2850 | 44 | 55 | DN150 | DN125 |
XRS2000/50 | 40000 | 2000 | 44 | 160 | DN200 | DN150 |
疏水型氣相二氧化硅三級(jí)分散機(jī)