光催化劑實驗室納米分散機一般需要將二氧化tai分散到液體基料中,形成懸浮液,需要對光催化劑體系進行研磨分散,使懸浮液(或乳化液)體系中的分散物微?;?、均勻化的處理過程,這種處理同時起降低分散物尺度和提高分散物分布均勻性的作用,使得光催化劑產品更穩(wěn)定。
光催化劑實驗室納米分散機
一、產品名稱概述:光催化劑超高速分散機,光催化劑納米分散機,光催化劑高剪切分散機,光催化劑管線式分散機,光觸媒超高速分散機
二、光催化劑的簡介
通俗意義上講觸媒就是催化劑的意思,光觸媒顧名思義就是光催化劑。催化劑是改變化學反應速率的化學物質,其本身并不參與反應。光催化劑就是在光子的激發(fā)下能夠起到催化作用的化學物質的統稱。
三、光催化劑材料的種類
世界上能作為光觸媒的材料眾多,包括二氧化tai,氧化鋅),氧化錫二氧化鋯,硫化鎘等多種氧化物硫化物半導體,其中二氧化tai因其氧化能力強,化學性質穩(wěn)定無毒,成為世界上當紅的納米光觸媒材料。在早期,也曾經較多使用硫化鎘和氧化鋅作為光觸媒材料,但是由于這兩者的化學性質不穩(wěn)定,會在光催化的同時發(fā)生光溶解,溶出有害的金屬離子具有一定的生物毒性,故發(fā)達國家目前已經很少將它們用作為民用光催化材料,部分工業(yè)光催化領域還在使用。
二氧化tai是一種半導體,分別具有銳鈦礦,金紅石及板鈦礦三種晶體結構,其中只有銳鈦礦結構和金紅石結構具有光催化特性。
四、光催化原理
因為生產光催化劑的材料幾乎都是固體半導體材料,因此光催化又稱為半導體光催化。光催化氧化的機理是用固體能帶理論來解釋的。
根據固體能帶理論,固體材料的能帶結構可以分為價帶、禁帶和導帶三部分。導體的導帶和價帶發(fā)生了重合即其禁帶寬度為零,所以導體可以導電;絕緣體的禁帶寬度很大以至于價帶的電子很難被激發(fā)使其躍遷至導帶,所以絕緣體不導電;半導體的禁帶寬度介于導體與絕緣體之間,所以其在一定條件下可以導電。
在半導體中,所有價電子所處的能帶就是所謂的價帶,比價帶能量更高的能帶便是導帶,介于價帶和導帶之間的空隙稱之為禁帶。光催化氧化過程簡單的說就是價帶上的電子受到光照的激發(fā)躍遷至導帶,形成了電子和空穴,形成的電子-空穴對又引發(fā)了其他的一系列的反應。
五、光催化劑材料的分散
光催化材料應用中,一般需要將二氧化tai分散到液體基料中,形成懸浮液,需要對光催化劑體系進行研磨分散,使懸浮液(或乳化液)體系中的分散物微粒化、均勻化的處理過程,這種處理同時起降低分散物尺度和提高分散物分布均勻性的作用,使得光催化劑產品更穩(wěn)定。結合多家客戶案例,推薦XMD2000系列超高速研磨分散機,兩級結構,先研磨后分散,轉速0-18000rpm,研磨分散效果好,粒徑小,均勻度高。或批次式小量分散機LD-1L。
設備參數
電源220V,50/60Hz
蕞小允許攪拌量300ml
蕞小允許乳化量500ml
蕞大允許乳化量1000ml
蕞高工作溫度120℃
可達到真空-0.0975Mpa
蕞大處理粘度100,000CP
攪拌馬達功率50W
攪拌速度范圍10-200rpm
攪拌槳配置錨式螺帶刮壁攪拌槳
刮板材質PTFE
均質馬達功率500W
均質速度范圍10000-28000rpm
均質工作頭配置20DG
反應釜蓋開口均質機口+料斗口+測溫口+真空口+3個功能口
升降支架行程210
與物料主要接觸材質SS316L、硼硅玻璃、FKM
真空口外徑10
玻璃釜夾套進、出口外徑12
允許環(huán)境溫度5-40℃
允許相對濕度80%
外形尺寸470×420×1200
標配重量~35kg
光催化劑實驗室納米分散機